Зависимость сопротивление растекания от диаметр микроплазмы, дифференциальное сопротивление растекания микроплазм и его распределения ряду Тейлора и решения систем функции методом Коши
Авторы
Ключевые слова: арсенид галлия (GaAs), микроплазма, дифференциальное сопротивление микроплазмы, сопротивление растекания, диаметр микроплазмы, концентрация свободных носителей заряда
Аннотация
Библиографические ссылки
1. Конакова Р.В, Кордош П., Тхорик Ю.А., Файнберг Ф.И., Штофаник Ф. Прогнозирование надёжности полупроводнико- вых лавинных диодов. -Киев: «Наукова думка», 1986, -С.188.
2. Гафийчук В.В., Дацко Б.И., Кернер Б.С., Осипов В.В. Микроплазмы в идеально однородных p – i – n структурах. //ФТП. 1990. Т.24, в 4, -С. 724 – 730.
3. Банная В.Ф., Никитина Е.В. Электрический пробой в чистом n- и p- Si. //ФТП. 2018. Т. 52, в3, -С.291-294.
4. Грехов В.И., Сережкин Ю.Н. Лавинный пробой p-n перехода в полупроводниковых, - Л.: «Энергия», 1980. -С.152.
5. Гярулайтие Д.А., Намаюнас А.М., Тамашявичене З.Н., Тамашявичюс А.В. Влияние радиационных дефектов на вероят- ность включения искусственных микроплазм в кремнии. //ФТП.1990. Т 24, в 3, -С. 564-565.
6. Викулин И.М., Новыков Л.Н., Прохоров В.А. Влияние облучения нейтронами на характеристики микроплазменного про- боя. // ФТП.1983, Т17, в6, -С.1054 – 1059.
7. Коршунов Ф.П., Ластовский С.Б., Марченко И.Г. Характеристики электронно облученных p – n переходов в области ла- винного пробоя. //ФТП. 1994. Т28, в3, -С.478-481.
8. Mejnture Thery of microplasma instability in Silicon, J. Appl. phys., 1961, v.32, №6, -P. 31-43.
9. Василевский К.В. Расчёт динамических характеристик лавинно – пролетного диода на карбиде кремния. // ФТП.1992. Т26, в10, -С. 1775-1782.
10. Шашкина А.С., Ханин С.Д. Имитационный подход к моделированию лавинного пробоя p – n перехода//ФТП.2019, Т53, в 6, -С.850-855.
11. Зи С. Физика полупроводниковых приборов. -М.: «Радио и связь» 1984, т.1, -С.455. Т.2, -С.455. ,
12. Файзуллаев В. А. Назарий физиканинг математик усуллари. –Тошкент: