РЕКОНФИГУРАЦИЯ ЗАРЯДОВЫХ СОСТОЯНИЙ НА ИНТЕРФЕЙСНЫХ И ЕЁ ВЛИЯНИЕ НА ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА СТРУКТУР МЕТАЛЛ–ДИЭЛЕКТРИК–ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУР
Авторы
Ключевые слова: структуры металл–диэлектрик–полупроводник, интерфейсные состояния, ловушки заряда, гистерезис ёмкость–напряжение, напряжение плоских зон, релаксация заряда, энергия активации, кинетика обмена зарядом, локальный потенциальный рельеф, реконфигурация интерфейсных состояний
Аннотация
Библиографические ссылки
1. Fleetwood D.M. Border traps in MOS devices. // IEEE Transactions on Nuclear Science, 62(4), 2015. –P. 1462-1486.
2. Grasser T., et al. The universality of charge trapping in oxides. // Microelectronics Reliability, 52(1), 2012. –P. 39-70
3. Kuchkarov B., Mamatkarimov O., and Abdulkhayev A. Influence of the ultrasonic irradiation on characteristics of metal–glass–semiconductor structures. // IOP Conference Series: Earth and Environmental Science, vol. 614, Art. №012027, 2020.
4. Mamatkarimov O.O., Kuchkarov B.H., Sharibaev N.Yu., Abdulkhayev A. A. Influence of the ultrasonic irradiation on characteristic of the structures metal–glass–semiconductor. // European Journal of Molecular and Clinical Medicine, vol. 8, no. 1, 2021.
5. Kuchkarov B.K., Mamatkarimov O.O., Abdulkhayev A.A. Relaxation dependence of the capacity of a three-layer structure in the process of charge formation of an inversion layer. // Scientific Bulletin of Namangan State University, vol. 1, №6, 2019. – P. 26-33.
6. Kuchkarov B., Abdulkhayev A. Factors providing the efficiency of semiconductor lasers. // Scientific Bulletin of Namangan State University, vol. 3, №5, 2021. – P. 48-52.